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半导体核心材料—光刻胶概述
1、光刻胶是指通过紫外光、电子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。
2、光刻胶是增感剂、感光树脂、溶剂、助剂等材料合成的。增感剂 是光刻胶的关键成分，对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。
3、光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。
4、有相关数据显示，2018年之中，全球半导体市场结构之中光刻胶的占比达到了24%，被称之为半导体的核心材料。在全球半导体光刻胶市场之中，日本企业可以说是一家独大的，随随便便就能够形成垄断的现象，其占比达到了80%。
光刻胶研发工程师前景
你要问的是光刻胶研发工程师前景怎么样吗？前景不错，有前途。光刻胶属于技术壁垒很高的行业，目前国内市场在慢慢发展起来，知识性和技术性强，有发展前景。
有前途。研发工程师属于科技人才。随着科技的越来越发达，各行各业都很重视自己产品的研发，产品研发需要编制一些软件，因此需要研发人员做开发。
研发工程师的现状是有前途的。研发作为公司的核心技术之一，其发展前景不言而喻。只要有优秀的技术，愿意学习技术，几年后工资会越来越高，技术总监的月薪可以超过10万。研发工程师的晋升路线也更多，如管理方向、纯技术方向。
行业有前景。但是这行业的确很辛苦，为了产出的最大化，设备24h生产不间断（你见过过年都不放假的公司吗？如果没见过我告诉你多数芯片制造／半导体企业就是这样），所以工艺工程师和设备工程师需要24h待命，加班普遍比较多。
研发技术人员的就业前景好。根据查询相关公开信息，目前，研发技术人员的就业前景非常乐观。
从工作职责方面可以看出，研发工程师的技术含量较高，公司对研发工程师的重视程度也更高，在同等经验和级别的情况下，研发工程师的待遇比其它技术工程师也稍高。因此，也具有比较好的就业前景。
光刻胶是制造手机芯片必不可少的东西,你知道光刻胶是啥吗?
光刻胶属于半导体八大核心材料之一，根据全球半导体行业协会（SEMI）最新数据，光刻胶在半导体晶圆制造材料价值占比5%，光刻胶辅助材料占比7%，二者合计占比12%。
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，受到光照后特性会发生改变，是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，主要应用于电子工业和印刷工业领域。
光刻胶是增感剂、感光树脂、溶剂、助剂等材料合成的。增感剂 是光刻胶的关键成分，对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。
光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。
光刻胶是一种具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝光图形的介质。光刻胶的英文名是resist，也翻译成resist、photoresist等。光致抗蚀剂的功能是作为抗蚀刻层保护衬底表面。
光刻胶有成为光制扛蚀机是光刻成像的承载介质，可以利用化学反应原理讲光哥系统中经过滤波颜色后的光信息转化为能量，完成掩膜图形的复制。
光刻胶的作用
）溶剂：是光刻胶中最大成分，目的是使光刻胶处于液态，但溶剂本身对光刻胶的化学性质几乎无影响。4）助剂：通常是专有化合物，主要用来改变光刻胶特定化学性质。
光刻机则是一种机械设备，它的作用是将光刻胶涂覆到硅片上并进行曝光、显影的过程。应用场景：光刻胶主要用于光刻工艺中，其性能和质量对芯片的制程精度和性能起着关键作用。而光刻机是制造芯片的核心装备。
作用：在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。
利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。
光刻胶与光刻机的关系
1、根据电子发烧友网查询显示，光刻胶是光刻机研发的重要材料，光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面。
2、不是一回事。光刻胶是一种在半导体制造中用于光刻工艺的关键材料，主要用于制作集成电路、微机电系统和显示器件等，光刻机则是一种用于将光刻胶涂覆到硅片上并进行曝光、显影的设备。所以光刻胶和光刻机是一回事。
3、原理不同：光刻胶在光照下发生化学反应，并在显影过程中将发生反应的部分去掉，形成图案，而光刻机则是将光刻胶涂覆到硅片上并进行曝光、显影的过程。
4、光刻机则是一种机械设备，它的作用是将光刻胶涂覆到硅片上并进行曝光、显影的过程。应用场景：光刻胶主要用于光刻工艺中，其性能和质量对芯片的制程精度和性能起着关键作用。而光刻机是制造芯片的核心装备。