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2022年的企业所得税申报截止时间
法律分析：2022年全年纳税申报时间安排确定 3月、7月、8月、11月、12月申报纳税期限分别截至当月15日。1月1日至3日放假3天，1月申报纳税期限顺延至1月19日。2月1日至6日放假6天，2月申报纳税期限顺延至2月23日。
年5月31日。根据查询国家税务总局官网显示，2022年度企业所得税年度汇算清缴工作将于2023年5月31日结束。企业所得税 是以企业取得的生产经营所得和其他所得为征税对象所征收的一种税。
正面回答2021年度企业所得税汇算清缴在2022年5月31日前均可申报，具体请以各省市税务局要求为准，具体可以咨询当地税务局，因为企业所得税汇算清缴系统每年都会有一定的变化，所以一般申报时间为1月-5月。
全球芯片公司有哪些?
联发科技是台湾上市公司，始创于1997年，是一家专注于创造横跨信息科技、消费电子及无线通信领域的IC解决方案的现代化企业，目前已经是全球第四大半导体公司，旗下研发的芯片一年会驱动超过15亿台智能终端设备。
全球三大芯片制造商：台积电、三星、英特尔。台积电 1987年，台积电公司成立于台湾新竹科学园区，并开创了专业集成电路制造服务商业模式。
台积电：台积电（TSMC）是全球领先的半导体制造公司，总部位于中国台湾，它是世界上最大，最先进的芯片制造厂，苹果，华为和小米等手机制造商都依赖于台积电的芯片制造。
全球芯片排行榜如下：Intel英特尔 英特尔公司创始于1968年，总部地点位于美国加州圣克拉拉，是半导体行业和计算创新领域的全球领先厂商。
半导体核心材料—光刻胶概述
1、光刻胶是指通过紫外光、电子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。
2、光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。
3、光刻胶是增感剂、感光树脂、溶剂、助剂等材料合成的。增感剂 是光刻胶的关键成分，对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。
4、有相关数据显示，2018年之中，全球半导体市场结构之中光刻胶的占比达到了24%，被称之为半导体的核心材料。在全球半导体光刻胶市场之中，日本企业可以说是一家独大的，随随便便就能够形成垄断的现象，其占比达到了80%。
5、半导体光刻胶根据曝光光源波长不同来分类，分别是紫外全谱(300～450nm)、G 线(436nm)、 I 线(365nm）、深紫外(DUV，包括248nm和193nm)和极紫外(EUV)，相对应于各曝光波长的光刻胶也由此而生。
6、光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。光刻胶的作用就是作为抗刻蚀层保护衬底表面。