mos管沟道（MOS管沟道内场强分布）

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1、指针表判断N-P沟方法（10K档）：N沟MOS管：红表笔接（D），黑表笔接（S），指针满偏。P沟MOS管：跟N沟MOS管测量现象相反。

2、漏极和源极互换，若两次测出的电阻都很大，则为N沟道；若两次测得的阻值都很小，则为P沟道。判定源极S、漏极D：在源-漏之间有一个PN结，因此根据PN结正、反向电阻存在差异，可识别S极与D极。

3、首先，先判定MOS的三个极，G极，中间的电极为G极，非常好认。S极，两根线相交的极就是S极。

4、说明是PN结的反向，即都是反向电阻，可以判定是N 沟道场效应管，且黑表笔接的是栅极；若两次测出的电阻值均很小，说明是正向PN结，即是正向电阻，判定为P沟道场效应管，黑表笔接的也是栅极。

5、很简单，看转移特性曲线所分布的象限即可。如果是增强型管子，曲线的全部都集中在一个象限中，P沟道全部在第三象限，N沟道在第一象限。

6、而与NMOS不同，PMOS管外加的Vds必须是负值，开启电压VT也必须是负值，实际电流方向为流出漏极。N沟道和P沟道MOSFET分为增强型和耗尽型。如图为增强型N沟道、P沟道MOSFET。

mos管沟道（MOS管沟道内场强分布）

1、作为N沟道耗尽型MOS管，在制造过程中，S、D之间的衬底表面形成了导电沟道，其原因就是往沟道区域注入了磷离子或砷离子，一般来说是磷离子，砷离子常被用来作为S、D区域的注入。

2、P沟道MOSFET的工作原理与N沟道MOSFET类似，只是它使用P型沟道和N型基片。当在栅极上施加负电压时，P沟道通道变得导电，允许电流流通。总的来说，MOSFET的工作原理基于栅极电场控制半导体通道的电导性。

3、MOS管的工作原理(以N沟道增强型MOS场效应管)它是利用VGS来控制“感应电荷”的多少，以改变由这些“感应电荷”形成的导电沟道的状况，然后达到控制漏极电流的目的。

4、根据导电方式的不同，MOSFET又分增强型、耗尽型。所谓增强型是指：当VGS=0时管子是呈截止状态，加上正确的VGS后，多数载流子被吸引到栅极，从而“增强”了该区域的载流子，形成导电沟道。

5、MOSFET是金属-氧化物-半导体场效应晶体管的缩写。它是一种电子器件，用于控制和放大电流。 MOSFET的基本工作原理如下：MOSFET是由硅晶体制成的晶体管。

6、MOS管的导通是一个过程，你需要仔仔细细看一下模电书，好好温习一下Ugs(th)的定义。对于N-MOSFET来说，Ugs(th)是指刚刚形成导电沟道所需要的Ugs电压，注意这里的定语——刚刚形成导电沟道。

G：gate 栅极；S：source 源极；D：drain 漏极。N沟道的电源一般接在D，输出S，P沟道的电源一般接在S，输出D。增强耗尽接法基本一样。晶体管有N型channel所有它称为N-channel MOS管，或NMOS。

MOS管三个极，分别是栅极（G）源极（S）和漏极（D）。MOS器件是电压控制型器件，用栅极电压来控制源漏的导通情况。MOS管和三极管截止区：NMOS管的如果栅压小于阈值电压，MOS管相当于两个背靠背的二极管，不导通。

G：gate栅极；S：source 源极；D：drain 漏极。N沟道的电源一般接在D，输出S，P沟道的电源一般接在S，输出D。增强耗尽接法基本一样。

源极（Source）：源极是MOS管的输入引脚，它是电流流入MOS管的地方。在MOS管上，通常有一个明确标记为Source或S的引脚，它与源极电流相关。通常，MOS管的引脚标记会在器件的外壳上清晰可见，以帮助区分这三个引脚。

G D S分别是栅极漏极源极，通过GS之间的电压，控制DS之间是否导通，建议百度文库 mos，有详细的文档。

D级是漏极，相当于三级管的集电极，S是源级，相当于三级管的发射级。场效应晶体管(Field Effect Transistor缩写(FET))简称场效应管。

1、在集成电路领域，特征尺寸是指半导体器件中的最小尺寸。在CMOS工艺中，特征尺寸典型代表为“栅”的宽度，也即MOS器件的沟道长度。一般来说，特征尺寸越小，芯片的集成度越高，性能越好，功耗越低。

2、从而使更多电子自源极漂移到夹断点，导致在耗尽区漂移电子增多，使id增大，这种效应称为沟道长度调制效应 MOS管漏极和源极之间的电压差增大，实际反型沟道长度逐渐减小。

3、宽长比是 MOS 管的导电沟道的宽与长的比，宽长比越大，MOS 管的 Id 就越大，也就是宽长比与 Id 成正比。如果只是用来做驱动的话，根据负载能力确定宽长比。

4、两个MOS管并联使用的作用是为增大输出电流，一般用在功放的末级电流不够时才用此电路。

5、其结构和工作原理与N沟道MOS管类似；只是使用的栅-源和漏-源电压极性与N沟道MOS管相反。

1、N沟道的MOSFET和P沟道的MOSFET区别就是驱动上面，N沟道的Vgs是正的，P沟道的Vgs是负的。只要Vgs达到了打开的门限值，漏级和源级就可以过电流了。

2、MOS场效应管分J型，增强型，耗尽型。一般来说N沟道是导电沟道是N型半导体，P沟道是P型半导体，然后再区分栅极压降是要正开启还是负开启。mos场效应管在金属栅极与沟道之间有一层二氧化硅绝缘层，因此具有极高的输入电阻。

3、MOSFET是一种可以广泛使用在模拟电路与数字电路的场效晶体管，其工作原理按导电沟道可分为P沟道和N沟道。

4、MOS依照其“通道”的极性不同，可分为N沟与‘p“沟的MOSFET结构。如图是典型平面N沟道增强型MOSFET的剖面图。

5、N通道的开关切换速度较快，大多数开关电路或线性稳压，会使用N通道；P通道也是可以使用的，只是速度较慢，较少采用，设计上，电路也与N通道的相反。有时候，有些设计，是会采用N+P的电路设计，尤其笔记本上很常见。